第120章 1nm光刻机首测成功，震撼全场！(4/4)

队成员呼吸同时停滞。

大屏幕上清晰显示——

实测线宽：1.02nm

套刻精度：1.18nm

边缘粗糙度：≤0.45nm

微观缺陷数：0

轰！！！

团队瞬间炸了！！！

“神呐！所有核心参数全部达到甚至超越国际商用1nm制程标准！！”

“苏总研发的国产HighNAEUV光刻机竟然成功了！！！”

“OMG！太不可思议了吧！！谁能掐我一下！我不是在做梦吧？！！”

不是……

成功了？

安若素和安无恙两位门外汉相视一眼，对于不懂的人来说，连是否成功都无法分辨。