第1364章 膜厚控制(2/3)

有替代供应商，这个纯度只有住友和德国贺利氏能做。”

张红旗说：“那就让他们发。钱的事我来办。”

挂了电话，张红旗打给刘浩。

刘浩在京城，刚从北影厂出来。

“浩子，走个账。四百八十万美元，从香港账户出，打到住友化学的指定账户，今天之内到。”

刘浩问：“什么钱？”

“材料费，不多问。”

刘浩说：“行，我让陈默那边办。”

当天下午，陈默在香港操作。钱从瑞士账户转到香港，再从香港打到东京。四个小时，到账。

住友收到款，田中签了发货单。钼靶材从横滨港装船，走海运，三天到鹏城。

八月八号，材料到了。

钱院士没急着装料。他带着团队蹲在溅射设备前，干了一件事。

改机器。

小周把设备的控制电路板拆出来。钱院士拿着手册上的参数，在白板上画了一个补偿模型。

“设备精度不够，用软件补。”

他让三个博士生把实验楼地下室的模拟集群调出来——四十台服务器，全部接上——跑了一个补偿算法。

思路很简单：设备硬件做不到零点零二纳米的精度，就在每一层镀膜的过程中用传感器实时采集数据，反馈到算法里，算法即时修正下一步的沉积参数。

等于让一个手抖的人，靠一套自动修正系统，画出一条直线。

八月九号，凌晨两点，补偿参数跑出来了。

小周把参数灌进设备控制系统，重启。

溅射设备嗡嗡响了起来。

钱院士站在无尘室的观察窗外，看着里面。

第一层钼膜，沉积开始。

传感器采集，数据回传，算法修正。第二层硅膜，沉积，采集，修正。

一层钼，一层硅，交替沉积。

EUV反射镜面需要四十对钼硅多层膜——八十层，每层厚度不到七纳米。

八月十号，下午三点，八十层镀完。

小周从无尘室里出来，手里端着一块圆形基片，直径十五厘米，表面泛着金属光泽。

钱院士接过来，放在检测台上。

椭偏仪启动，激光打在镜面上，反射，探测器接收。

数据出来了。

小周看着屏幕，念数：“单层膜厚度误差，零点零三五纳米。”

钱院士没说话。

手册要求零点零二，他们做到了零点零三五。没达标，但比原来的零点零八好了一倍多。

“反射率呢？”

小周切换到下一组数据：“十三点五纳米波长，反射率百分之六十二点三。”

钱